1、溫(wen)育的(de)溫(wen)度：

育常采用(yong)的(de)溫(wen)度有(you)43 、37℃、室溫(wen)或4℃等(deng)。37℃是實(shi)驗(yan)室中(zhong)常用(yong)的(de)溫(wen)育溫(wen)度，也(ye)是大多(duo)數(shu)抗原(yuan)抗體結合(he)的(de)最(zui)適反(fan)應(ying)溫(wen)度。抗原(yuan)抗體反(fan)應(ying)壹(yi)般在37℃經(jing)1～2 h 產(chan)物的(de)生(sheng)成(cheng)可(ke)達(da)ding峰(feng)，為加速反(fan)應(ying)，可(ke)在壹(yi)定(ding)範圍(wei)內提高(gao)反(fan)應(ying)的(de)溫(wen)度並(bing)在反(fan)應(ying)過程中連(lian)續(xu)振蕩(dang)來增加抗原(yuan)抗體接觸(chu)的(de)概率。抗原(yuan)抗體反(fan)應(ying)在(zai)4℃更(geng)為徹(che)di，形成(cheng)的(de)產(chan)物更(geng)多、更(geng)穩定(ding)，但因(yin)所需(xu)時間太長(chang)，在ELISA檢(jian)測中(zhong)壹(yi)般不予(yu)采用(yong)。

2、溫(wen)育的(de)方(fang)式(shi)：

溫(wen)育方(fang)式常采用(yong)溫(wen)箱法(fa)、微波(bo)輻射法和水浴(yu)法(fa)。其(qi)中(zhong)水浴(yu)法(fa)能較好(hao)解決(jue)因(yin)受熱(re)不均衡(heng)所致(zhi)的(de)周圍(wei)孔與中(zhong)央孔結果的(de)吸(xi)光(guang)度差(cha)異（即(ji)“邊緣效應(ying)"）。可(ke)將ELISA板置於(yu)水浴(yu)箱(xiang)中，板底應貼(tie)著水面(mian)，使溫(wen)度迅(xun)速平(ping)衡(heng)，為避免蒸(zheng)發(fa)，可用(yong)塑(su)料貼(tie)封紙(zhi)覆(fu)蓋(gai)板孔。若(ruo)用(yong)溫(wen)箱，ELISA板應(ying)放(fang)在(zai)濕盒(he)內，濕盒(he)要(yao)選用(yong)傳(chuan)熱(re)性(xing)良好(hao)的(de)材(cai)料（如金(jin)屬(shu)等(deng)），在(zai)盒底墊濕的(de)紗(sha)布，最(zui)後將ELISA板放(fang)在(zai)濕紗(sha)布上。溫(wen)育過程中每(mei)塊(kuai)反(fan)應(ying)板不(bu)能(neng)重(zhong)疊(die)放(fang)置，防(fang)止溫(wen)度擴(kuo)散(san)的(de)不(bu)均勻(yun)性(xing)。